如何用渦流膜厚儀測量陽極氧化膜

渦流膜厚儀是利用渦電流原理進行測量的，要求基體金屬為非磁性且表面膜層不導電。當測頭與試樣接觸時，測頭產(chǎn)生的高頻電流磁場，在基體金屬中會感應出渦電流，此渦流電產(chǎn)生的附加電磁場會改變測頭參數(shù)，而測頭參數(shù)的改變則取決于與氧化膜或涂層厚度相關的測頭到基體之間的距離，渦流膜厚儀通過對測頭參數(shù)改變量的測量，經(jīng)過計算機分析處理，便可得到氧化膜或涂層的厚度值。

用渦流膜厚儀對鋁及鋁合金基體上氧化膜及涂層厚度進行測量，它具有快速、方便、非破壞性的特點。

特別適用于在生產(chǎn)現(xiàn)場、銷售現(xiàn)場或施工現(xiàn)場對產(chǎn)品進行快速無損的膜厚檢查，是當前生產(chǎn)線質(zhì)量控制方面應用最廣的方法。但由于渦流膜厚儀存在著固有的測量誤差，因此一般不適用于測量薄的轉(zhuǎn)化膜。

采用本試驗時應注意各種因素對測量精度的影響，盡量減少或避免各種影響測量精度的因素。采用渦流膜厚儀測量膜厚，一般有以下影響測量精度的因素:待測的覆蓋層厚度、基體金屬電性質(zhì)、基體金屬厚度、邊緣效應、試樣的曲率、試樣表面的粗糙度、試樣表面的附著物質(zhì)、測厚儀的測頭壓力、測厚儀測頭的放置、試樣的變形、環(huán)境溫度等。

為了保證測量精度，每臺渦流膜厚儀在測量前都應進行校準，當基體材料的合金成分改變、試樣形狀改變及使用了較長時間等情況下建議進行再次校準，校準一般都采用沒有涂層的基體試樣進行零點校準和采用已知精確厚度值的校準標準片進行兩點或多點校準，當采用的校準標準片為標準箔時，必須確保校準箔與基體緊密接觸，避免使用有彈性的箱，以防止產(chǎn)生測量誤差。

在進行測量操作時，應將探頭平穩(wěn)、垂直地置于清潔、干燥的待測試樣上，測頭置于試樣上所施加的壓力要保持恒定。通常由于渦流膜厚儀的每次讀數(shù)并不完全相同，因此必須在任一測量面積內(nèi)進行多次測量，并取其平均值。